X光散射

X光散射藉由分析X光通過待測物後的散射強度,輔以入射X光能量(波長)、散射角度…等條件,用以了解待測物的晶體結構、化學組成及物理特性。其過程可外加如溫度、壓力、腐蝕等不同條件,以達到對待測物的通盤了解。而掠角入射X光廣角散射GIWAXS,對於表面及薄膜內部的型態資訊(如分子尺寸、分布、排列、有序性等),提供從奈米到微米尺度的結構解析。

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