電子產業始終處於研究和創新的前沿，旨在提高以持續小型化為特徵的設備的性能和能源效率。同步加速器光源能夠以前所未有的空間分辨率研究奈米級裝置並表徵電子材料。借助 X 射線奈米探針和 20 至 100 奈米範圍內的光束尺寸，人們可以使用多種技術繪製電子設備圖，包括奈米和微米斷層掃描、奈米衍射、奈米螢光和 FTIR 顯微鏡。

同步加速器技術為以下問題提供了答案：

• 機械性能，包括單晶、多晶材料、薄膜和外延層上的應力和應變。
• 形態和結構表徵，包括多模態分析、薄膜厚度和粗糙度。
• 物理化學特性，包括磁性、能帶和功函數。
• 體元件和薄膜的失效分析：空隙、沉澱、位錯和分層。
• 微觀結構：晶粒尺寸分佈與晶體取向圖。